BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑

更新時(shí)間：2025-10-30 點(diǎn)擊次數(shù)：441

納米粒度儀通過(guò)動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)DLS檢測(cè)均勻穩(wěn)定樣品的粒徑和粒徑分布。DLS的最佳檢測(cè)范圍在幾納米至亞微米范圍。DLS技術(shù)無(wú)法有效檢測(cè)大顆粒的原因之一是大顆粒通常具有一定的沉降行為，這對(duì)動(dòng)態(tài)光散射的準(zhǔn)確性造成極大的影響。然而對(duì)于一些具有沉降特征的顆粒，可以利用其沉降行為進(jìn)行粒度測(cè)試。

BeNano 180 Zeta Max納米粒度及Zeta電位分析儀中在0°角設(shè)置一個(gè)PD檢測(cè)器，通過(guò)檢測(cè)透射光的光強(qiáng)隨時(shí)間的變化，檢測(cè)沉降樣品的粒度和粒度分布信息。沉降法粒度測(cè)試的適合范圍在幾微米至幾十微米，可有效彌補(bǔ)動(dòng)態(tài)光散射對(duì)大顆粒檢測(cè)的限制。

在這篇應(yīng)用報(bào)告中，使用百特BeNano 180 Zeta Max納米粒度及Zeta電位分析儀、BetterPyc 380多功能真密度儀、Bettersize 2600激光粒度分析儀檢測(cè)了一種硅酸鋯粉末的粒度信息。

BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑

原理

BeNano 180 Zeta Max納米粒度及Zeta電位分析儀基于透射光路檢測(cè)樣品的透射光強(qiáng)度，然后基于斯托克斯方程：

計(jì)算體系的粒徑和粒徑分布信息，測(cè)試需要對(duì)應(yīng)溫度下分散介質(zhì)的折射率、密度和粘度信息、對(duì)應(yīng)溫度下顆粒物的折射率和密度和樣品體積。

實(shí)驗(yàn)

樣品信息如下：

其中樣品密度通過(guò)BetterPyc 380多動(dòng)能真密度儀檢測(cè)，樣品的粒徑分別通過(guò)BeNano 180 Zeta Max納米粒度及Zeta電位分析儀和Bettersize 2600激光粒度分析儀檢測(cè)。

結(jié)果分析和結(jié)論

圖1. 沉降法信號(hào)（上圖）和沉降法粒度分布（下圖）

表1. 沉降法3次測(cè)試結(jié)果

圖2. Bettersize 2600激光粒度分析儀分布結(jié)果

表2. 沉降法和激光粒度儀典型值對(duì)照表

由測(cè)試結(jié)果可以看出，通過(guò)沉降法得到的結(jié)果具有較好的重復(fù)性，D50相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差優(yōu)于5%，沉降法得到的分布結(jié)果和激光粒度分析儀具有較好的可比性。